近日，304am永利集团手机端硕士研究生王一庆为第一作者，于锋副教授、吉俊懿副教授和郭旭虹教授为通讯作者的学术论文《N-Doping of plasma exfoliated graphene oxide via dielectric barrier discharge plasma treatment for the oxygen reduction reaction》在国际Top期刊《Journal of Materials Chemistry A》（简称JMCA）上发表内封底论文（Inside back cover paper）。JMCA是英国皇家化学学会（RSC）旗下具有高影响力的国际刊物，2017年影响因子（IF）为9.931。

    该项工作主要是利用低温等离子体技术制备出了氮掺杂氧化石墨烯（N-PEGO）。低温等离子体技术制备N-PEGO过程简单易操作，过程中采用碳酸铵作为活化剂和氮源，一步即可实现氧化石墨烯的有效剥离和氮掺杂。采用该方法制备N-PEGO，氮的掺杂量可达到5.3 at.%，比表面积达到380.0 m2/g，起始电位达到0.89 V（vs RHE），具有优异的氧还原反应（ORR）催化活性，稳定性和抗甲醇性能也都优于商业贵金属铂碳催化剂。

    (通讯员：张洁)